廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
更新時(shí)間:2023-11-13
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簡(jiǎn)要描述:
立式真空爐內部及外殼均由優(yōu)質(zhì)材料制成,使其具有良好的隔熱性能與絕緣性能。該設備還配備了*進(jìn)的控溫系統和真空泵系統,可以實(shí)現高精度、穩定的溫度控制和真空環(huán)境下的加熱處理等功能。
品牌 | 其他品牌 | 價(jià)格區間 | 1萬(wàn)-2萬(wàn) |
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儀器種類(lèi) | 箱式爐 | 產(chǎn)地類(lèi)別 | 國產(chǎn) |
應用領(lǐng)域 | 化工,電子 |
立式真空爐是一種非常重要的加熱設備,廣泛應用于各個(gè)領(lǐng)域。它利用高溫、低壓環(huán)境在無(wú)氧或低氣壓下對材料進(jìn)行加熱、燒結、退火等處理,適用于半導體材料制造、粉末冶金、陶瓷材料制備等工藝。
相較于傳統的箱式爐,立式真空爐具有很多優(yōu)勢。首先,其內部空間更大,可以容納更大的材料批量。同時(shí),由于爐膛為豎直方向,可以實(shí)現流程自動(dòng)化和連續生產(chǎn),提高了生產(chǎn)效率。而且,立式真空爐的控制技術(shù)也十分*進(jìn),可以通過(guò)PLC、人機界面等手段,實(shí)現參數控制、程序控制等功能。
另外,由于立式真空爐可在無(wú)氧或低氣壓環(huán)境下進(jìn)行加熱,使得材料中的氧化物、氣體等會(huì )在高溫下被還原或抽出,從而能夠保證材料質(zhì)量的穩定性。同時(shí),減少了氣氛調節所帶來(lái)的工作量,大幅度提高了生產(chǎn)效率。因此,立式真空爐廣泛應用于粉末冶金、半導體制造等要求材料純度高的領(lǐng)域。
在使用中,立式真空爐操作簡(jiǎn)便,只需設定加熱時(shí)間和溫度,即可實(shí)現自動(dòng)化生產(chǎn)。當然,這種設備也需要日常維護保養,例如每次燒結前都應清理干凈爐膛內的殘留物,并注意定期更換耗損件。
總之,立式真空爐是一種非常重要的工業(yè)加熱裝置,其*的技術(shù)特點(diǎn)能夠滿(mǎn)足很多材料處理的需求。它的*進(jìn)控制技術(shù)和處理效果已成為許多企業(yè)生產(chǎn)電器。